這是半導體、電子制造領域的設備,由日本 KASHIYAMA(柏山工業)研發,專注真空環境控制,是行業標準配置之一。
無油干式設計:避免潤滑油污染介質,適配超潔凈工藝(如半導體晶圓加工);
抽氣性能強勁:最大抽速 50,000 L/min,極限壓力低至 0.5Pa,可快速建立穩定真空環境;
節能低耗:運行功率僅 2.1kW,冷卻水需求僅 3.0L/min,降低長期運行成本;
靈活兼容:支持 0-80 SLM 氮氣吹掃調節,可與同系列 SDX/SDT/SDH 型號設備協同擴展;
小型化設計:外形尺寸 1050×515×950mm(長 × 寬 × 高),節省安裝空間。
半導體制造、液晶顯示(LCD)生產、電子 / 電池工藝、化工腐蝕氣體處理、高純度實驗室真空系統等,核心用于蝕刻、晶圓加工等關鍵工序。